Aktivted-400277-2026
Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage für die Technische Universität München
Wir suchen eine hochmoderne Atomic Layer Deposition (ALD)-Anlage, die für fortschrittliche Forschung und Entwicklung an der Technischen Universität München eingesetzt wird. Diese Anlage ist entscheidend für die Materialwissenschaften.
AUFTRAGGEBER
Name
Technische Universität München
Stadt
München
Land
DE
KLASSIFIZIERUNG
Verfahrensart
Offenes Verfahren
Auftragsart
Lieferungen
Haupt-CPV
31712100, Mikroelektronische Maschinen und Apparate.
WEITERE DETAILS
EU-finanziert
Ja
KMU-geeignet
Nein
Elektronische Einreichung
Erforderlich
Rechtsgrundlage
32014L0024
FRISTEN & ZEITRAUM
Angebotsfrist
32 Tage verbleibend(LOT-0001)
Veröffentlicht