Edge-Handling Sputtering Cluster Tool für VTT Micronova
Lieferung eines Edge-Handling Sputtering Cluster Tools: für 200-mm-Wafer mit Wafer-Kantenhandhabung für das VTT Micronova Reinraum-Halbleiter-Frontend; umfasst eine Abscheidungskammer mit vier Magnetron-Sputterquellen; Wafer werden während Transport und Bearbeitung nur am Waferrand mechanisch berührt und können im Vakuum zwischen den Prozessen gewendet werden; weitere Details laut Vergabeunterlagen.
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