Elektronenstrahl-Lithographiegerät und Rasterelektronenmikroskop für die Pilotlinie der UPV
Lieferung, Installation und Inbetriebnahme eines Elektronenstrahl-Lithographiegeräts (UPV04) für Wafer bis 8 Zoll und eines Rasterelektronenmikroskops (UPV13) für die Pilotlinie der UPV: Das Elektronenstrahl-Lithographiegerät belichtet Muster auf empfindlichen Resists mittels fokussiertem und gescanntem Elektronenstrahl, erzeugt Merkmale mit Nanometerauflösung nach digitalem Design und dient der Nanofabrikationsmusterung, insbesondere für Masken und Strukturen in Photonik, Halbleitern und Nanotechnologie. Das Rasterelektronenmikroskop dient der Oberflächeninspektion mittels fokussiertem Elektronenstrahl, liefert Bilder mit Nanometerauflösung, ermöglicht morphologische und Oberflächenkontrastinformationen sowie Kontrast basierend auf Zusammensetzung oder Atomzahl, und wird für Metrologie, Inspektion, Prozessvalidierung und Qualitätskontrolle eingesetzt. Die Ausrüstung ist für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten zur Verbesserung und Neuentwicklung von Pilotlinien für Halbleitertechnologien bestimmt.
AUFTRAGGEBER
Name
Rectorado de la Universitat Politècnica de València
Stadt
Valencia
Land
ES
KLASSIFIZIERUNG
Verfahrensart
Offenes Verfahren
Auftragsart
Lieferungen
Haupt-CPV
31712110, Elektronische integrierte Schaltungen und Mikrobaugruppen.
WEITERE DETAILS
EU-finanziert
Ja
Elektronische Einreichung
Erforderlich
Rechtsgrundlage
32014L0024
FRISTEN & ZEITRAUM
Angebotsfrist
56 Tage verbleibend(LOT-0000)
Veröffentlicht