Aktivted-409508-2026

Elektronenstrahllithographiesystem für die Universität Twente

Die Universität Twente sucht ein hochauflösendes und schnelles Elektronenstrahlsystem für Mustererstellung auf Substraten bis 200mm. Dieses System wird akademischen und industriellen Nutzern für diverse Nano-Anwendungen zur Verfügung stehen.

3.500.000 €

Originalquelle ansehen

AUFTRAGGEBER

Name

Universiteit Twente

Stadt

Enschede

Land

KLASSIFIZIERUNG

Verfahrensart

Offenes Verfahren

Auftragsart

Lieferungen

Haupt-CPV

38000000, Labor-, optische und Präzisionsgeräte (ohne Brillen)

Weitere CPV

38341100, Elektronenstrahl-Aufzeichnungsgeräte

WEITERE DETAILS

EU-finanziert

Elektronische Einreichung

allowed

Rechtsgrundlage

32014L0024

FRISTEN & ZEITRAUM

Angebotsfrist

14.08.202610:00 Uhr57 Tage verbleibend

(LOT-0000)

Veröffentlicht

14.06.2026

AUFTRAGSDOKUMENTE

57 Tage verbleibend

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