Plasma-gestützte Atomlagenabscheidungsanlage (PE-ALD)
Bekanntmachung: ALD-Anlage
Lieferung einer Plasma-gestützten Atomlagenabscheidungsanlage (PE-ALD) für die Dünnschichtabscheidung auf Substraten vom Einzelchipformat (5 x 5 mm²) bis mindestens 150 mm Wafer. Das System muss reproduzierbare Abscheideprozesse für verschiedene leitfähige, halbleitende und dielektrische Schichten ermöglichen, auch ohne Vakuumunterbrechung (Multilagen). Ein Steuer-PC mit Monitor, Tastatur, Maus, Software-Lizenzen und Windows 11 Betriebssystem ist mitzuliefern.
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Auftragsdokumente
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