FIB-SEM Dualbeam System
FIB-SEM Dualbeam System: 1 Stück feldfreies (ohne Immersionsoptik) fokussiertes Ionenstrahlsystem in Kombination mit einem hochauflösenden Rasterelektronenmikroskop für Strukturierung, Nanostrukturierung sowie Querschnitts- und Oberflächenanalyse von vorwiegend III/V-Halbleitern, LNOI, Polymeren, Resists und halbleitertechnischen Prozessprodukten. Programmierbare und automatisierte Routinen sollen konfigurierbar sein. Optionen: Fortgeschrittenenschulung für 15 Tage (2 Personen), Abfrage der Kontingente nach Bedarf; 1 Gasinjektionssystem mit weiteren Elementen, wird im Rahmen der Ausschreibung festgelegt; Softwaremodul zum Import von KLAF-Dateien.
AUFTRAGGEBER
KLASSIFIZIERUNG
Verfahrensart
neg-w-call
Auftragsart
Lieferungen
Haupt-CPV
42900000, Verschiedene allgemeine und spezielle Maschinen.
WEITERE DETAILS
EU-finanziert
Ja
KMU-geeignet
Ja
Elektronische Einreichung
allowed
Rechtsgrundlage
32014L0024
FRISTEN & ZEITRAUM
Angebotsfrist
14 Tage verbleibend(LOT-0000)
Veröffentlicht