Lieferung einer Gasphasenabscheidungsanlage für die Universität Heidelberg

Lieferung und betriebsfertige Übergabe eines Systems für plasma-verstärkte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) mit induktiv gekoppelter Plasmaquelle (ICP): Das System dient der Herstellung hochwertiger Materialfilme mit präzise definierten Schichtdicken im Nanometer-Mikrometerbereich und der Abscheidung dielektrischer Dünnfilme mit steuerbaren optischen Eigenschaften und präzise kontrollierbaren Schichtdicken durch In-situ-Monitoring. Es soll die Abscheidung von dielektrischen Schichten für optische Passivierungen, optische Wellenleiter, Mehrlagensysteme und als Hartmasken für hochauflösende Lithographieverfahren ermöglichen, sowie die optimierte Abscheidung von Siliziumdioxid, Siliziumnitrid, amorphem Silizium und diamantähnlichen Kohlenstoffschichten. Die Leistung umfasst Angebot und Lieferung eines Neugerätes bzw. Neuware, fristgerechte Lieferung und vollständige Aufstellung an der Verwendungsstelle, Entsorgung von Verpackungen und überzähligen Bestandteilen, Funktionstest bzw. Demonstration, Einweisung und Inbetriebnahme, Abnahme des Gerätes vor Ort sowie eine Schulung vor Ort (3 Tage á 8 Stunden) für 2 Mitarbeiter der Universität Heidelberg. Das maximale Finanzmittelbudget beträgt 806.000,00 EUR (einschließlich Mehrwertsteuer oder vergleichbar, Zölle und etwaigen Skonti).

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