Rasterelektronenmikroskop

Lieferung eines Rasterelektronenmikroskops (REM): 1 Stück, mit einem elektronenoptischen System für hohe laterale Auflösung bis in den Sub-Nanometer-Bereich, umfassender Detektorausstattung (Kammerdetektoren für Sekundärelektronen (SE) und Rückstreuelektronen (BSE), In-Lens-Detektoren für SE und BSE mit wählbaren Energiebereichen und Signaltrennung), bevorzugt feldfreier Objektivlinse, einfacher und unabhängiger Umschaltung von Beschleunigungsspannung und Strahlstrom zwischen hochauflösenden und analytischen Betriebsmodi sowie technischer Lösung zur Vermeidung von Probenaufladungen. Das System muss die Untersuchung von Wafern bis 8 Zoll (jede Position vom Zentrum bis zum Rand unter bevorzugten ECCI-Bedingungen erreichbar ohne Verlust der Region of Interest (ROI)) und bis 12 Zoll (größtmöglicher Bereich zugänglich) mittels Electron Channeling Contrast Imaging (ECCI)-Technik und Kathodolumineszenz (CL)-Analyse an derselben ROI ermöglichen, mit hoher Pixelzahl und großem Sichtfeld (bis zu 400 × 400 µm) bei geringer Vergrößerung für niedrige Versetzungsdichten (< 10⁴ cm⁻²), sowie Proben-Navigation mittels interner und externer Bilder mit Mikrometer-Genauigkeit. Eine umfassende Softwarelösung für automatisierte Datenerfassung ist erforderlich, inklusive Steuerung der REM-Funktionen und freier Anordnung innerhalb ausgewählter ROIs auf dem Wafer über eine moderne, intuitive grafische Benutzeroberfläche mit "Drag-and-Drop"-Workflow-Editor (Kombination von Mikroskopfunktionen mit ROI-Listen, Schleifen, if/else-Logik, modularer Gruppierung), automatisierter Bildgebungs-Workflow für große Sichtfelder und hochauflösende Aufnahmen, sowie integrierte Skripting-Funktionen für kundenspezifische Python-Codes. Optionen umfassen Software zur Auswertung von ECP-Mustern (Indizierung von Beugungslinien, Bestimmung von Kippwinkeln basierend auf gemessenen ECP), zusätzliche Kabel- und Stickstoffdurchführungen für einen EBIC-Probentisch und eine Stickstoff-Kühleinheit, einen Plasma-Reiniger im Inneren der Hauptkammer und Software zur Analyse geschichteter Proben (Schichtdicken im Nanometer- bis Mikrometerbereich, Analyse basierend auf vorgegebenen Schichtdicken oder individuellen Schichtzusammensetzungen).

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